光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是芯片制造的核心裝備。其工作方式是通過光的作用,將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上,然后顯影出圖形,最后經(jīng)過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。

三類光刻機(jī)的對比

LED生產(chǎn)用接近式光刻機(jī)工藝流程
全自動Mask Aligner光刻機(jī)設(shè)備

適用于半導(dǎo)體、LED、Mini/Micro LED、5G通訊、新型光學(xué)器件、MEMS、PCB、化合物半導(dǎo)體、光伏、功率器件等行業(yè)。
● 三高:高分辨率、高精度套刻、高產(chǎn)能,全自動雙工位運(yùn)行;
● 高效的自動對準(zhǔn),客制化操作界面及功能;
● 實(shí)時(shí)光強(qiáng)監(jiān)控,電機(jī)驅(qū)動式光源調(diào)節(jié)系統(tǒng);
● 模塊化設(shè)計(jì),定制化生產(chǎn),可選高壓汞燈/UVLED、自動/手動、單工位/雙工位、雙面曝光、卷對卷曝光等。

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大族半導(dǎo)體將依托現(xiàn)有的技術(shù)積累,持續(xù)對產(chǎn)品進(jìn)行提升和優(yōu)化,提升光刻設(shè)備的品質(zhì)和性能,推動產(chǎn)業(yè)的優(yōu)化升級,為提升國產(chǎn)裝備市場競爭力添磚加瓦。
